加载中...
推荐位 推荐位

并列发明点的撰写布局问题

发布时间:2021.07.05 江苏省查看:1385 评论:3

对于技术交底材料有2个并列发明点的情况,撰写布局,第一件申请以第一个发明点作为独权,第二个发明点采用引用关系作为从权。第二件专利以第二个发明点作为独权。为保证2件专利的授权,进行同日申请,这样操作行吗?请前辈指导,谢谢!


分享(1)

收藏

点赞

举报

评论列表

  • 第1楼
    如果这两个并列发明点所解决的技术问题不同,而且第二个发明点所解决的技术问题包括第一个发明点之外的情况,那么建议作为两件申请提出。

    2021/07/05 11:24 [来自广东省]

    0 举报
  • 第2楼
    好的,谢谢!

    2021/07/05 11:37 [来自江苏省]

    0 举报
  • 第3楼
    这样做虽规避了专利法第九条,但是否能获得授权,还要看这两个发明点的技术领域,解决的技术问题是否相同或类似。不然会列为非正常申请

    2022/06/22 12:06 [来自江西]

    0 举报

快速回复